產品詳情
序號 | 項目 | 說明 |
1 | 極限真空度 | 優于5×10-4Pa（新設備） |
2 | 石墨外尺寸 | 82×82mm |
3 | 基片尺寸 | 50×50mm/60*60mm（可放置兩種樣品，最大尺寸60*60mm） |
4 | 源和樣品加熱溫度 | 源加熱4min達到600℃ 樣品加熱4min達到600℃（不通水冷） |
5 | 溫度均勻性
| 基片面積50×50mm內，源材料布置均勻的情況下，溫度不均勻性≤±5℃。 |
6 | 最高溫度 | 650℃，可以維持30min. |
7 | 升華間距 | 無水冷工位：10~20mm。 水冷工位位：置固定15mm |
8 | 真空操作 | 自動抽真空。 |
公司以誠信、互助、創新和認真為基石。秉承質量就是生命，信任重于泰山的經營理念。誠摯為客戶提供最佳的設計方案、最優良的產品和最滿意的售后服務。
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